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指紋識(shí)別FPC之硅晶圓:供不應(yīng)求 訂單短缺至2026年

2022-08-10 10:15

  據(jù)深聯(lián)電路指紋識(shí)別FPC小編了解,默克公司宣布與美光科技合作開(kāi)發(fā)用于半導(dǎo)體工藝、能降低全球變暖趨勢(shì)(global warming potential,GWP)的氣體解決方案。 

  默克表示,經(jīng)過(guò)一年的持續(xù)合作,美光科技目前正在測(cè)試默克研發(fā)部門(mén)提供的低GWP替代性蝕刻氣體,以驗(yàn)證其制程性能,從而取代傳統(tǒng)的高GWP材料,目標(biāo)在半導(dǎo)體制程中導(dǎo)入全新且更具可持續(xù)性的氣體解決方案。

  據(jù)指紋識(shí)別FPC小編了解,為達(dá)成在2030年減少42%的全球運(yùn)營(yíng)所造成的碳排放(相較于2020年)這一目標(biāo),美光科技投入于投資先進(jìn)的減排系統(tǒng)、優(yōu)先使用全球暖化潛勢(shì)較低的氣體、外購(gòu)節(jié)能設(shè)備、以可再生能源石化取代能源等方面。

  據(jù)指紋識(shí)別FPC小編了解,長(zhǎng)久以來(lái),默克與美光科技建立了互相信賴的事業(yè)伙伴關(guān)系,而本次降低全球暖化潛勢(shì)氣體的合作更為雙方的永續(xù)合作邁出了第一步。兩家公司皆致力于發(fā)掘有助實(shí)現(xiàn)永續(xù)發(fā)展目標(biāo)的新穎材料,以取代現(xiàn)行應(yīng)用于干蝕刻與光罩清洗制程的多種高暖化潛勢(shì)的蝕刻氣體。

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