PCB廠帶你了解車載電池FPC連接片虛焊失效分析
Case background
No.1 案例背景
電池FPC廠講某車載電池充電異常,經(jīng)初步分析是內(nèi)部FPC連接板接觸不良導(dǎo)致。連接板由FPC+鎳片+SMD元件+PI膜構(gòu)成,如下圖:
Analysis process
No.2 分析過程
# X-Ray檢測(cè) #
通過X-RAY檢測(cè),可以明顯辨別出Ni片與FPC焊盤之間存在虛焊不良。而且未虛焊的點(diǎn)位均存在較大面積的焊接空洞。
#失效焊點(diǎn)的剝離表面分析#
據(jù)軟板廠所知針對(duì)異常連接點(diǎn),將鎳片剝離后,對(duì)其表面特征進(jìn)行分析。分析發(fā)現(xiàn):
Ni片焊接剝離面Sn為自然聚合狀態(tài),表面光滑,無拉扯或鋸齒狀態(tài)。
FPC pad面偏灰色,表面光滑,有明顯坑狀氣泡空洞痕跡,無拉扯或鋸齒狀態(tài)。
通過SEM分析顯示,pad表面平整,結(jié)晶規(guī)則。整體呈現(xiàn)灰白色,結(jié)晶顆粒約2μm左右。
EDS分析結(jié)果顯示,pad面主要以Sn、Cu金屬成分構(gòu)成。C、Cl主要來自于剝離面的附著物,據(jù)此判斷為助焊劑殘留物。同時(shí),Sn、Cu元素產(chǎn)生了相互熔合滲透。
剝離面外觀確認(rèn)
Ni片焊接剝離面:Sn呈自然聚合狀態(tài),表面光滑,無拉扯或鋸齒狀態(tài)。
FPC pad焊接剝離面:斷面偏灰色,且表面光滑,有明顯坑狀氣泡空洞痕跡,無拉扯或鋸齒狀態(tài)。
剝離面SEM分析
Ni片焊接剝離面SEM圖示
左右滑動(dòng)查看圖集
FPC pad焊接剝離面SEM圖示
左右滑動(dòng)查看圖集
剝離面EDS分析
Ni片焊接剝離面的成分分析
FPC pad面焊接剝離面的成分分析
注:圖譜中的Au為電鏡分析噴涂的導(dǎo)電物。
#失效焊點(diǎn)的切片斷面分析 #
針對(duì)失效焊點(diǎn),對(duì)其進(jìn)行切片斷面分析。
分析發(fā)現(xiàn):
斷面金相分析發(fā)現(xiàn):Sn與FPC pad分離,F(xiàn)PC pad銅面彎曲變形。焊錫呈自然的凝聚弧形狀態(tài)。從其整體狀態(tài)判斷,內(nèi)部受到了熱應(yīng)力作用即熱膨脹。
SEM分析發(fā)現(xiàn):焊點(diǎn)斷裂面位于Sn與pad側(cè)的IMC層,斷點(diǎn)在IMC層整體貫穿。IMC層整體連續(xù)、均勻,厚度2.0μm左右,狀態(tài)良好。部分Sn面呈自然凝結(jié)弧狀。
EDS分析發(fā)現(xiàn):pad上的IMC層以Cu、Sn構(gòu)成,重量比約為40:60,為Cu6Sn5結(jié)構(gòu),是良性IMC。斷裂面的焊錫側(cè)為100%Sn成分,進(jìn)一步說明斷裂面為Sn與pad側(cè)的IMC層。
Ni片側(cè)、pad側(cè)的Sn結(jié)晶狀態(tài)無明顯差異,說明焊錫過程是同步的。
在斷面上檢出較明顯的助焊劑殘留。
切片斷面分析
切片斷面金相分析
切片斷面SEM分析
切片斷面EDS分析
#良好焊點(diǎn)的切片斷面分析#
FPC廠講有電阻焊接的焊點(diǎn),焊接狀態(tài)良好,IMC層連續(xù)、均勻,厚度1.46μm。Ni片與pad之間無段差。
切片斷面分析
切片斷面金相分析
切片斷面SEM分析
#FPC pad與Ni片組裝結(jié)構(gòu)#
部分FPC pad相對(duì)平面有50μm-60μm的段差,即下沉,部分無段差。
工藝流程:Ni片SMT回流焊接→PI膜→SMD元件焊接,即Ni片在PI膜貼附后還要回流一次。
組裝結(jié)構(gòu)
部分FPC pad相對(duì)平面有50μm-60μm的段差,本次分析的樣件對(duì)比如下:
PI膜熱壓后,Ni片焊接部分被完全封閉,即Ni片與pad焊接部分形成完全密閉空間。
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